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J-GLOBAL ID：200903097989463011

半導体ウエハの乾燥装置

Inventor： 佐藤 裕彦
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Agent (1)： 野口 繁雄
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992306363
Publication number (International publication number)：1994037083
Application date： Oct. 19, 1992
Publication date： Feb. 10, 1994
Summary：

【要約】【目的】 洗浄を終了した半導体ウエハが、乾燥処理が開始されるまでの間に自然乾燥するのを防ぐ。【構成】 固定されたチャンバー2内にスピンドル16を介して回転する保持部14が設けられ、保持部14には槽20が回転軸26を中心として垂直面内でほぼ90度回転できるように取りつけられている。槽20には半導体ウエハを収納したウエハカセットが収納される。チャンバー2には外部から槽20に注水するための注水管28が設けられている。

Claim (excerpt)：

開閉可能な蓋をもつ固定されたチャンバーと、このチャンバー内で水平面内で回転して半導体ウエハを乾燥させる保持部と、この保持部に取りつけられ、半導体ウエハを収納したウエハカセットを収納するとともに、開閉可能な排水口をもつ槽と、この槽に注水する注水管とを備えたことを特徴とする半導体ウエハの乾燥装置。