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J-GLOBAL ID:200903098012640833

光学多層構造体およびその製造方法、並びに光スイッチング素子および画像表示装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 藤島 洋一郎
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2001212251
Publication number (International publication number):2003029169
Application date: Jul. 12, 2001
Publication date: Jan. 29, 2003
Summary:
【要約】【課題】 簡単な構成で、構成材料の選択にも自由度があり、かつ可視光領域においても高速応答が可能であり、しかも配線の信頼性の向上した光学多層構造体を提供する。【解決手段】 光学多層構造体1は、基板10の上に、この基板10に接する、光の吸収のある第1の層11、光の干渉現象を起こし得る大きさを有すると共にその大きさを変化させることのできる間隙部12、および透明の第2の層13をこの順で配設した構成を有する。第1の層11の複素屈折率をN1 (=n1 -i・k1 ,n1 は屈折率,k1 は消衰係数,iは虚数単位)、第2の層13の屈折率をn2 、入射媒質の屈折率を1.0としたとき、次式の関係を満たすように設定される。
Claim (excerpt):
基板上に、光の吸収のある第1の層、光の干渉現象を起こし得る大きさを有すると共にその大きさが可変な間隙部、および透明な第2の層をこの順で配設した構造を有する光学多層構造体であって、前記第1の層が前記基板の光学的情報が見えなくなる程度に十分に厚く、かつ、前記第1の層の複素屈折率をN1 (=n1 -i・k1 ,n1 は屈折率,k1 は消衰係数,iは虚数単位)、前記第2の層の屈折率をn2 、入射媒質の屈折率を1.0としたとき、次式(1)の関係を満たす【数1】ことを特徴とする光学多層構造体。
IPC (3):
G02B 26/08 ,  B81B 7/02 ,  G02B 5/28
FI (3):
G02B 26/08 A ,  B81B 7/02 ,  G02B 5/28
F-Term (13):
2H041AA14 ,  2H041AA16 ,  2H041AB26 ,  2H041AB40 ,  2H041AZ02 ,  2H041AZ08 ,  2H048GA04 ,  2H048GA13 ,  2H048GA25 ,  2H048GA33 ,  2H048GA48 ,  2H048GA51 ,  2H048GA62
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (6)
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Cited by examiner (8)
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