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J-GLOBAL ID:200903098023762183

基板洗浄装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 間宮 武雄
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992257209
Publication number (International publication number):1994084858
Application date: Aug. 31, 1992
Publication date: Mar. 25, 1994
Summary:
【要約】【目的】 基板の表面に対するブラシの押し付け量の調節を簡単かつ常に正確に行なうことができ、ホルダーに複数のブラシを保持した装置ではブラシに製造誤差や取付け誤差があっても、また、ブラシの取付け姿勢の如何に拘らず、ブラシ全体が基板表面に接触して基板表面を正常に洗浄することができ、ブラシが経時変化を起こしても、基板の洗浄効果を一定に維持することができるようにする。【構成】 基板10の表面に押し付けられて接触した状態で回転するブラシ部14を、変形自在の蛇腹18を介在させて保持部材16に保持し、減圧弁22及び圧力ゲージ26が介設されたエアー供給路20を通して加圧空気を蛇腹内へ供給し蛇腹内部に封入する。
Claim (excerpt):
基板の表面にブラシ部を押し付けて接触させた状態でブラシ部を基板表面に対し直交する軸心回りに回転させ又は基板表面に沿って揺動もしくは往復微動させることにより基板表面を洗浄する基板洗浄装置において、前記ブラシ部を弾性手段を介在させて保持部材に保持するとともに、基板の表面に対するブラシ部の押し付け圧を調節する押し付け圧調節手段及びその押し付け圧を測定する押し付け圧測定手段を設けたことを特徴とする基板洗浄装置。
IPC (2):
H01L 21/304 341 ,  B08B 1/04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (1)
  • 特開平4-199712

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