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J-GLOBAL ID:200903098024638419

露光方法及び走査型露光装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 高月 亨
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1995040580
Publication number (International publication number):1996236427
Application date: Feb. 28, 1995
Publication date: Sep. 13, 1996
Summary:
【要約】【目的】 段差等により露光の不均一が生じて寸法差が生じるなどのおそれのある被露光材についても、容易な構成で寸法差発生等の問題を解決した露光方法及び走査型露光装置を提供する。【構成】 ?@露光光2をウェハ等の被露光部に照射して露光を行う際、露光光を液晶31・・・を介して被露光部に照射するとともに、該液晶を制御することにより露光光照度制御を行う。?A露光光照射部を被露光部に対して相対的に走査して露光を行う走査型露光装置において、露光光照射部と被露光部との間に区画された液晶をスリット5等に配置し、該区画された液晶は区画毎に制御可能である構成とする。
Claim (excerpt):
露光光を被露光部に照射して露光を行う露光方法であって、露光光を液晶を介して被露光部に照射するとともに、該液晶を制御することにより露光光照度制御を行う構成としたことを特徴とする露光方法。
IPC (3):
H01L 21/027 ,  G02F 1/13 505 ,  G03F 7/20 521
FI (4):
H01L 21/30 515 E ,  G02F 1/13 505 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 518
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 走査型露光装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平5-175502   Applicant:キヤノン株式会社
  • 特開昭62-193125
  • 投影露光装置
    Gazette classification:公開公報   Application number:特願平4-349162   Applicant:株式会社東芝

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