Pat
J-GLOBAL ID：200903098027752999
赤外線ガス分析装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
小林 良平
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994088017
Publication number (International publication number)：1995270316
Application date： Mar. 31, 1994
Publication date： Oct. 20, 1995
Summary：
【要約】【目的】 赤外線ガス分析装置において従来よりも低濃度のガス成分の測定を可能とする。【構成】 ガスセル20の前段に捕集管12を設け、制御部24による制御の下、測定対象のガス成分を捕集管12に吸着させて捕集した後、ヒータH1による加熱によってガス成分を脱着させることによりガス成分を濃縮してガスセル20内に封入し、これにFTIR22が干渉光を照射することにより、濃縮度を考慮しつつガス成分の濃度を求める。
Claim (excerpt)：
ガスセルに導入された試料ガスに赤外光を照射し、試料ガスによる赤外光の吸収特性を利用して試料ガスに含まれる特定成分の濃度を測定する赤外線ガス分析装置において、a)試料ガスに含まれる前記特定成分を吸着させて捕集する捕集手段と、b)捕集手段を加熱する加熱手段と、c)捕集手段に試料ガスを流す第1ガス移送手段と、d)キャリアガスにより前記特定成分を捕集手段から前記ガスセルに移送する第2ガス移送手段と、e)第1ガス移送手段によって捕集手段に所定量の試料ガスを流した後に、加熱手段によって捕集手段を加熱し、該加熱によって捕集手段から脱着した前記特定成分を第2ガス移送手段によって前記ガスセルに導入する制御手段と、を備えることを特徴とする赤外線ガス分析装置。
IPC (2)：
Return to Previous Page
