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J-GLOBAL ID：200903098028070751

蛍光膜形成方法とそれに用いる蛍光膜形成用転写材

Inventor： 篠原 秀雄 ,  黒田 勝彦 ,  小栗 康生 ,  内田 博
Applicant, Patent owner： 三菱化成株式会社 ,  化成オプトニクス株式会社 ,  ソニー株式会社
Agent (1)： 長谷川 曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993083590
Publication number (International publication number)：1994295671
Application date： Apr. 09, 1993
Publication date： Oct. 21, 1994
Summary：

【要約】【目的】 ガラス基板上に、特に陰極線管のフェースプレート上に蛍光膜を容易に効率よく形成することのできる蛍光膜形成方法およびその方法に用いる転写材を提供する【構成】 熱転写性蛍光体層が導電性ベースフィルム上に形成された転写材の、前記熱転写性蛍光体層をガラス基板に対向させ、前記転写材にレーザーを照射し、その熱により前記熱転写性蛍光体層をガラス基板上にパターン状に転写し、焼成することにより蛍光膜を前記ガラス基板上に形成することを特徴とする蛍光膜形成方法及び該転写材が熱転写性蛍光体層、ベースフィルム、または熱転写性蛍光体層とベースフィルムの間の中間層のうち少なくとも一層に赤外線吸収剤を含有することを特徴とする蛍光膜形成用転写材

Claim (excerpt)：

少なくとも蛍光体と熱溶融性バインダーとを含む熱転写性蛍光体層がベースフィルム上に形成された転写材の、前記熱転写性蛍光体層をガラス基板に対向させ、前記転写材にレーザーを照射し、その熱により前記熱転写性蛍光体層をガラス基板上にパターン状に転写し、焼成することにより蛍光膜を前記ガラス基板上に形成することを特徴とする蛍光膜形成方法

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開平4-342923