対象の研究方法およびその光学干渉計(変型)

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (5)：志賀正武 , 渡邊隆 , 青山正和 , 村山靖彦 , 実広信哉
Gazette classification：公表公報
Application number (International application number)：2003568347
Publication number (International publication number)：2005517912
Application date： Feb. 10, 2003
Publication date： Jun. 16, 2005
Summary：

本発明は光学装置の対象となる内構造の研究に関する。対象の研究方法およびその実現する光学干渉計の一つの変型において研究している対象8へ向けた低干渉性光学放射のための光路は双向で作り、支持の低干渉性光学放射のための光路は単向で作った。それは分裂係数および光学放射混合係数の絶対独立を確保し、それによって光学放射線源1の電力の最適制御を実現できる。対象の研究方法およびその実現する光学干渉計の別の変型において、支持光路は輪23で作って、しかも、支持放射の部分は時計の針の方向に動く支持光路を透過し、別の支持放射の部分は時計の針と反対方向に動く支持光路を透過する。この変型において、分裂係数は光ビームスプリッター21、24を無相互で、あるいは偏極従属的で作り、そして光ビームスプリッター21、24の間および/あるいは測定腕と支持腕に偏極を変化される素子を加入して最良できる。

Claim (excerpt)：

第1低干渉性光学放射のビームは前向きおよび後ろ向きに双向で作った測定光路を伝わって透過し、第2低干渉性光学放射のビームは前向きに単向で作った支持光路を伝わって透過する事を特徴とする対象の研究する方法、この方法によって、低干渉性光学放射を形成し、その低干渉性光学放射を第1低干渉性光学放射のビームおよび第2低干渉性光学放射のビームに分け、上記した第1低干渉性光学放射のビームは測定光路を伝わって、研究する対象へ向け、第2低干渉性光学放射のビームは支持光路を伝わる、そして、測定光路を伝わって透過した低干渉性光学放射は支持光路を伝わって透過した低干渉性光学放射と混合し、研究する対象についてのインフォメーションを持ち、測定光路を伝わって透過した低干渉性光学放射の強度を写像する。そのために、上記の混合の結果である光学放射の干渉強度変調の少なくとも一つの信号を利用する。

IPC (4)：

G01N21/17 , A61B1/00 , G01B9/02 , G01N21/45

FI (4)：

G01N21/17 620 , A61B1/00 300D , G01B9/02 , G01N21/45 A

F-Term (39)：

2F064AA09 , 2F064CC01 , 2F064EE01 , 2F064EE04 , 2F064FF01 , 2F064FF02 , 2F064FF03 , 2F064GG02 , 2F064GG12 , 2F064GG24 , 2F064GG52 , 2G059AA05 , 2G059AA06 , 2G059BB12 , 2G059CC16 , 2G059EE01 , 2G059EE09 , 2G059FF01 , 2G059GG01 , 2G059GG02 , 2G059GG08 , 2G059HH01 , 2G059HH06 , 2G059JJ12 , 2G059JJ13 , 2G059JJ17 , 2G059JJ18 , 2G059JJ22 , 2G059KK01 , 2G059KK04 , 2G059MM08 , 2G059MM09 , 4C061AA22 , 4C061BB08 , 4C061CC07 , 4C061DD04 , 4C061FF24 , 4C061FF46 , 4C061HH51

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (9)

米国特許第5321501号明細書
米国特許第5383467号明細書
米国特許第5459570号明細書

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Cited by examiner (2)

光学干渉計
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-027290 Applicant：ヒューレット・パッカード・カンパニー
特表平6-511312

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