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J-GLOBAL ID：200903098081052625

基板処理装置

Inventor： 久保 和樹
Applicant, Patent owner： 株式会社カイジョー
Agent (1)： 羽切 正治
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997047002
Publication number (International publication number)：1998229067
Application date： Feb. 14, 1997
Publication date： Aug. 25, 1998
Summary：

【要約】【課題】 洗浄処理に関して、極く高い周波数帯域の駆動周波数の利用と、大きな被洗浄物の処理を可能とすると共に、洗浄対象たる基板の全面にわたる有効な層流を生ぜしめかつ槽内での渦の発生を防止し、以て処理能力を飛躍的に向上させた基板処理装置を提供すること。【解決手段】 処理槽2内で配列される各基板3と該処理槽の内側面2a、2bとの間に位置して流体の流れを制御する制御壁部71、72を蓋体51に設け、加えて、基板上から流下させる流体に超音波を付与することとし、以て前記の効果を得る。

Claim (excerpt)：

処理用流体を貯留する処理槽と、前記処理槽の上端開口部を開閉する蓋体と、前記処理槽内において複数枚の基板をその主たる面が略平行となるように所定の隙間を隔てて配列して保持する基板保持手段とを備えた基板処理装置であって、前記蓋体に設けられて処理用流体を前記基板の主たる面と略平行に前記処理槽内に流下する流体供給手段と、前記処理槽の底部側から前記流体を該処理槽外に排出する排出手段と、前記流体供給手段により流下される流体に超音波を付与する超音波付与手段とを有し、前記蓋体に、前記基板保持手段上の基板と前記処理槽の内側面又は他の基板との間に位置して流体の流れを制御する制御壁部が設けられていることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/12

FI (3)：

H01L 21/304 341 T ,  H01L 21/304 341 M ,  B08B 3/12 A