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J-GLOBAL ID：200903098171648101
トリベンゾアゼピン化合物およびその製造方法
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999277015
Publication number (International publication number)：2001097953
Application date： Sep. 29, 1999
Publication date： Apr. 10, 2001
Summary：
【要約】【課題】電子写真感光体や有機EL素子の電荷輸送剤として有用な化合物及びその製造法を提供する。【解決手段】式(II) の化合物の脱水反応を経由して式(I)の化合物を製造する。【化1】【化2】
Claim (excerpt)：
一般式(I)で表わされるトリベンゾアゼピン化合物を製造するにあたり、一般式(II)で表される化合物の脱水反応を経由することを特徴とする製造方法。【化1】(式中、Yは水素原子、アルキル基、アリール基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、アルカンスルホニル基またはアレンスルホニル基を表す。R1 およびR2 は水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アリール基、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリールオキシ基、アシル基、アルコキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、ホルミル基、カルボキシル基、スルホ基、ニトロ基またはアミノ基を表し、R3 、R4 、R5 およびR6 は水素原子、アルキル基またはアリール基を表す。mおよびnは1ないし4の整数を表す。)【化2】(式中、Y、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、R6 、mおよびnは前記と同義の基または数を表す。)
IPC (2)：
FI (2)：
F-Term (1)：
Patent cited by the Patent：
Article cited by the Patent：
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