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J-GLOBAL ID：200903098188103133

窒素酸化物を接触還元する方法

Inventor： 仲辻 忠夫 ,  鈴木 典男 ,  大野 弘志 ,  佐藤 尚宏
Applicant, Patent owner： ヴァルティオン テクンニィルリネン ツッツキムスケスクス ,  本田技研工業株式会社
Agent (1)： 牧野 逸郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004225509
Publication number (International publication number)：2006043533
Application date： Aug. 02, 2004
Publication date： Feb. 16, 2006
Summary：

【課題】酸素、硫黄酸化物又は水の存在下においても、とりわけ、NOx吸蔵触媒の深刻な問題点であった硫黄酸化物共存下での劣化とリッチ条件下での有害なアンモニアの生成がなく、広い温度域において、耐久性よくNOx を還元するための方法を提供する。【解決手段】燃料の燃焼雰囲気をリッチ条件とリーン条件との間で周期的に交互に振動させながら、燃料を燃焼させて、生成する排ガスを触媒器に導き、この触媒器内の触媒に接触させて、その排ガス中の窒素酸化物を接触還元する方法において、上記触媒が(A)(a)セリア又は (b)酸化プラセオジム又は (c)セリウム、ジルコニウム、プラセオジム、ネオジム、テルビウム、サマリウム、ガドリニウム及びランタンから選ばれる少なくとも2つの元素の酸化物の混合物及び/又は複合酸化物からなる酸化物触媒成分Aと、(B)(d)白金、ロジウム、パラジウム及びこれらの酸化物から選ばれる少なくとも1種からなる貴金属触媒成分Bとを触媒成分として有し、 リッチ条件下の触媒器の出口における酸素濃度を0.1〜1.0%の範囲とする。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

燃料の燃焼雰囲気をリッチ条件とリーン条件との間で周期的に交互に振動させながら、燃料を燃焼させて、生成する排ガスを触媒器に導き、この触媒器内の触媒に接触させて、その排ガス中の窒素酸化物を接触還元する方法において、上記触媒が (A)(a)セリア又は (b)酸化プラセオジム又は (c)セリウム、ジルコニウム、プラセオジム、ネオジム、テルビウム、サマリウム、ガドリニウム及びランタンから選ばれる少なくとも2つの元素の酸化物の混合物及び/又は複合酸化物からなる酸化物触媒成分Aと、 (B)(d)白金、ロジウム、パラジウム及びこれらの酸化物から選ばれる少なくとも1種からなる貴金属触媒成分Bとを触媒成分として有し、 リッチ条件下の触媒器の出口における酸素濃度を0.1〜1.0%の範囲とすることを特徴とする排ガス中の窒素酸化物を接触還元する方法。

IPC (4)：

B01D 53/94 ,  F01N 3/08 ,  F01N 3/28 ,  B01J 23/63

FI (6)：

B01D53/36 102B ,  F01N3/08 A ,  F01N3/28 Q ,  F01N3/28 301C ,  B01D53/36 102H ,  B01J23/56 301A

F-Term (70)：

3G091AB06 ,  3G091BA14 ,  3G091FB09 ,  3G091GB05W ,  3G091GB06W ,  3G091GB07W ,  3G091GB10X ,  4D048AA06 ,  4D048AB02 ,  4D048AB07 ,  4D048BA06X ,  4D048BA10X ,  4D048BA18X ,  4D048BA19X ,  4D048BA30X ,  4D048BA31X ,  4D048BA33X ,  4D048BA42X ,  4D048BB02 ,  4D048DA01 ,  4D048DA03 ,  4D048DA08 ,  4G069AA03 ,  4G069BA13B ,  4G069BB02A ,  4G069BB02B ,  4G069BB06A ,  4G069BB06B ,  4G069BC42B ,  4G069BC43A ,  4G069BC43B ,  4G069BC44A ,  4G069BC44B ,  4G069BC51A ,  4G069BC51B ,  4G069BC71A ,  4G069BC71B ,  4G069BC72A ,  4G069BC72B ,  4G069BC75A ,  4G069BC75B ,  4G069CA08 ,  4G069CA13 ,  4G069EA19 ,  4G069EB12Y ,  4G069EB15Y ,  4G169AA03 ,  4G169BA13B ,  4G169BB02A ,  4G169BB02B ,  4G169BB06A ,  4G169BB06B ,  4G169BC42B ,  4G169BC43A ,  4G169BC43B ,  4G169BC44A ,  4G169BC44B ,  4G169BC51A ,  4G169BC51B ,  4G169BC71A ,  4G169BC71B ,  4G169BC72A ,  4G169BC72B ,  4G169BC75A ,  4G169BC75B ,  4G169CA08 ,  4G169CA13 ,  4G169EA19 ,  4G169EB12Y ,  4G169EB15Y

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 窒素酸化物を接触還元する方法とそのための触媒
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2002-382611   Applicant：ヴァルティオンテクンニィルリネンツッツキムスケスクス
• 窒素酸化物を接触分解するための触媒と方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願2000-353950   Applicant：ヴァルティオンテクニライネンツッツキムスケスクス