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J-GLOBAL ID：200903098201577271

オゾン処理装置及びオゾン処理方法並びに浄水処理方法

Inventor： 藤生 昌男 ,  津倉 洋 ,  青柳 重夫 ,  月足 圭一 ,  島崎 弘志
Applicant, Patent owner： 株式会社明電舎
Agent (1)： 志賀 富士弥 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993045621
Publication number (International publication number)：1994254576
Application date： Mar. 08, 1993
Publication date： Sep. 13, 1994
Summary：

【要約】【目的】 検水に対してオゾンを過不足なく供給し、オゾン処理後の検水における溶存オゾン濃度を低くすることのできるオゾン処理を行うことを目的とする。また、このようなオゾン処理を用いて浄水処理を行う。【構成】 検水の溶存オゾン濃度や排オゾンガス濃度等から検水のオゾン要求量を求め、検水のオゾン消費量が上記検水のオゾン要求量と等しくなるように制御を行う。

Claim (excerpt)：

検水とオゾンガスとを接触反応させるオゾン処理槽と、オゾン供給時における供給オゾンガス濃度と排オゾンガス濃度とオゾン処理を終えた前記検水における溶存オゾン濃度とを測定するオゾン濃度測定手段と、水質制御手段とを有し、前記水質制御手段は、前記オゾン濃度測定手段から得られる供給オゾンガス濃度と排オゾンガス濃度と溶存オゾンガス濃度とに基づいて前記検水のオゾン消費量及び前記検水のオゾン要求量を求めるとともに、前記検水のオゾン消費量が前記検水のオゾン要求量と等しくなるように供給オゾンガス濃度を制御することを特徴とするオゾン処理装置。

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

• 特開平4-225895
  
• 特開平3-224694
  
• 特開昭58-150488