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J-GLOBAL ID：200903098216043699

全反射蛍光X線分析方法および装置

Inventor：
池下 昭弘

About 池下 昭弘


Applicant, Patent owner：
理学電機工業株式会社

About 理学電機工業株式会社


Agent (1)： 杉本 修司 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999316518
Publication number (International publication number)：2001133420
Application date： Nov. 08, 1999
Publication date： May. 18, 2001
Summary：
【要約】【課題】試料の側端面近傍の分析を可能にして、試料の有効利用を図ることができる全反射蛍光X線分析方法および装置を提供する。【解決手段】全反射蛍光X線分析において、試料50とX線検出器4間に複数のスリットを有する視野制限部材6が切換え可能に配置され、試料の側端面近傍を分析するとき、通常の分析に用いる第1のスリット61よりも小径の開口面積をもつ第2のスリット62に切換えて、X線検出器4に試料の側端面からの蛍光X線および散乱X線が取り込まれないように視野制限する。したがって、試料の側端面近傍での分析であっても、試料の側端面からの蛍光X線および散乱X線がX線検出器4に取り込まれることがないので、側端面近傍を含む試料50全体の分析が可能となる。また、この第2のスリット62により試料の狭い特定箇所の分析を行うこともできる。
Claim (excerpt)：
X線源からの一次X線を試料表面に向かって微小な所定の入射角で入射させ、前記試料表面に対向させたX線検出器で前記一次X線を受けた試料からの蛍光X線を検出する全反射蛍光X線分析方法であって、前記試料とX線検出器間に、試料の所定の測定部位からの蛍光X線をX線検出器に取り込むように視野制限する第1のスリット、および第1のスリットよりも小径の開口面積をもつ第2のスリットを含む複数のスリットを有する視野制限部材を切換え可能に配置し、前記試料の側端面近傍を測定するとき、前記X線検出器に前記試料の側端面からの蛍光X線および散乱X線が取り込まれないように、前記第2のスリットにより視野制限する全反射蛍光X線分析方法。
F-Term (22)：
2G001AA01 ,  2G001BA04 ,  2G001BA14 ,  2G001CA01 ,  2G001DA02 ,  2G001EA01 ,  2G001EA03 ,  2G001FA11 ,  2G001FA12 ,  2G001GA01 ,  2G001GA13 ,  2G001HA01 ,  2G001JA04 ,  2G001JA11 ,  2G001JA14 ,  2G001KA01 ,  2G001KA03 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001NA16 ,  2G001SA01 ,  2G001SA04
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (4)
  • 蛍光X線分析装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-097744   Applicant：株式会社島津製作所
  • X線分析装置およびX線照射角設定方法
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-117228   Applicant：株式会社テクノス研究所
  • 特開昭63-186133
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