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J-GLOBAL ID：200903098230114531

レジスト剥離剤除去用洗浄剤

Inventor： 高柳 恭之 ,  中村 富雄 ,  土肥 俊一 ,  塩津 信一郎
Applicant, Patent owner： 日東化学工業株式会社 ,  ナガセ電子化学株式会社
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992355429
Publication number (International publication number)：1994212193
Application date： Dec. 21, 1992
Publication date： Aug. 02, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 微細パタ-ン形成工程において、基板上に付着しているジスト剥離剤等残査を洗浄する際、洗浄力が優れているうえ、従来の親油性溶媒と親水性溶媒の両方を用いる方法に比べて洗浄の工程数が短縮され、且つ毒性や不快臭がなく安全性にすぐれ、操作性の良いレジスト剥離剤除去用洗浄剤を提供することにある。【構成】 乳酸アルキルエステルを含有するレジスト剥離剤除去用洗浄剤。

Claim (excerpt)：

乳酸アルキルエステルを含有するレジスト剥離剤除去用洗浄剤。

IPC (3)：

C11D 7/26 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/304 341