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J-GLOBAL ID：200903098255592810
ヒドロキシルアミンの製造方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
久保山 隆 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993218401
Publication number (International publication number)：1995070781
Application date： Sep. 02, 1993
Publication date： Mar. 14, 1995
Summary：
【要約】【構成】 電解質を含有し表面に触媒電極を有する隔膜で隔てられた二室からなる隔膜反応器を用い、陰極室に一酸化窒素を供給し、陽極室に水素を供給し、一酸化窒素-水素電池反応によりヒドロキシルアミンを製造する方法において、陰極触媒として鉄フタロシアニンを用いることを特徴とするヒドロキシルアミンの製造方法。【効果】 一酸化窒素からヒドロキシルアミンへの反応選択率が極めて高い。
Claim (excerpt)：
電解質を含有し表面に触媒電極を有する隔膜で隔てられた二室からなる隔膜反応器を用い、陰極室に一酸化窒素を供給し、陽極室に水素を供給し、一酸化窒素-水素電池反応によりヒドロキシルアミンを製造する方法において、陰極触媒として鉄フタロシアニンを用いることを特徴とするヒドロキシルアミンの製造方法。
IPC (3)：
C25B 1/00
, B01J 31/22
, C01B 21/14
