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J-GLOBAL ID：200903098288851609
X線リソグラフィー装置
Inventor：
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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
須山 佐一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992269912
Publication number (International publication number)：1994120120
Application date： Oct. 08, 1992
Publication date： Apr. 28, 1994
Summary：
【要約】【目的】 従来に較べて小型で低出力の励起レーザー装置を使用して実用的なX線強度を得ることができ、小型で実用性の高いX線リソグラフィー装置を提供する。【構成】 真空容器1内には、チタンターゲット2が設けられており、このチタンターゲット2の下方には、シリコン基板3が載置された載置台4が設けられている。また、チタンターゲット2とシリコン基板3との間には、Al製のフィルタ5、マスク6が設けられている。真空容器1外側には、パルス列YAGレーザー(Nd-YAGレーザー)7、レーザー光8を集光するレンズ9が設けられている。レーザー光8のパルス波形は、個々のパルスの幅が約100ps、パルスの間隔が約300psの16個のパルス列からなっている。
Claim (excerpt)：
励起レーザー装置からの励起レーザー光を集光し、真空容器内の固体ターゲットに照射してX線を発生させ、このX線によって被処理物の露光を行うX線リソグラフィー装置であって、前記励起レーザー装置は、各パルスのパルス幅が300ピコ秒以下、パルスの時間間隔が600ピコ秒以下で、パルス総数が3個以上のパルス列波形を有する励起レーザー光を射出するよう構成されていることを特徴とするX線リソグラフィー装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
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