Pat

J-GLOBAL ID：200903098290883429

異物検査装置の校正方法

Inventor： 藤吉 克洋
Applicant, Patent owner： 三菱電機株式会社
Agent (1)： 吉田 茂明 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2001381235
Publication number (International publication number)：2003185588
Application date： Dec. 14, 2001
Publication date： Jul. 03, 2003
Summary：

【要約】【課題】 標準粒子を用いた異物検査装置の校正において、前記異物検査装置による検査結果で得られるヒストグラムの散乱強度のピークの分離が、明確にできる異物検査装置の校正方法を提供することを目的とする。【解決手段】 本発明では、標準粒子の塗布領域2、3および4と異物検査装置のスキャン方向とが一致するように、成膜された校正用ウエハ上1に標準粒子を塗布し、これを用いて異物検査装置の校正を行う。

Claim (excerpt)：

異物検査装置の標準粒子を用いた校正方法において、(a)成膜されたウエハを用意する工程と、(b)前記異物検査装置のスキャン方向に合わせて、前記ウエハ上に前記標準粒子を塗布する工程と、(c)前記ウエハを、前記異物検査装置の所定の位置に、設置する工程と、(d)前記異物検査装置により、前記ウエハを所定の方向でスキャンする工程とを、備えることを特徴とする異物検査装置の校正方法。

IPC (3)：

G01N 21/93 ,  G01N 21/956 ,  H01L 21/66

FI (3)：

G01N 21/93 ,  G01N 21/956 A ,  H01L 21/66 J

F-Term (9)：

2G051AA51 ,  2G051AB01 ,  2G051AC21 ,  2G051CD04 ,  2G051CD05 ,  2G051EC02 ,  2G051ED04 ,  4M106AA20 ,  4M106CA41