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J-GLOBAL ID：200903098299610840

シヤンプー組成物

Inventor： 広田 修 ,  阿部 吉明
Applicant, Patent owner： 花王株式会社
Agent (1)： 有賀 三幸 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991206045
Publication number (International publication number)：1993043435
Application date： Aug. 16, 1991
Publication date： Feb. 23, 1993
Summary：

【要約】【構成】 (A)アルキルサッカライド系界面活性剤、(B)スルホサクシネート系界面活性剤及び(C)第四級アンモニウム塩を含有し、成分(B)/成分(C)の重量比が100/1〜2/1の範囲にあることを特徴とするシャンプー組成物。【効果】 洗浄力、起泡力に優れ、低刺激性であり、洗髪、すすぎ時のきしみがなく、かつ洗浄後の感触も良好である。

Claim (excerpt)：

次の成分(A)、(B)及び(C)(A)一般式(1)【化1】〔式中、R1 は炭素数8〜18の直鎖又は分岐鎖のアルキル基、アルケニル基又はアルキルフェニル基を示し、Gは炭素数5〜6の還元糖残基を示し、nは0〜20の数を示し、pは1〜10の数を示す。〕で表わされる糖系界面活性剤(B)一般式(2)又は(3)【化2】〔式中、R2 はR3-O-(CH2CH2O)m-又はR4CONH-(CH2CH2O)m-を示し(R3 は炭素数8〜22の直鎖又は分岐鎖のアルキル基又はアルケニル基を、R4 は炭素数7〜21の直鎖又は分岐鎖のアルキル基若しくはアルケニル基を示し、mは0〜20の数を示す)、M1 は水素原子又はアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム及び有機アンモニウムから選ばれる水溶性塩を形成する陽イオンを示す。〕で表わされるスルホコハク酸系界面活性剤(C)一般式(4)【化3】〔式中、R5 〜R8 のうち1個又は2個は、炭素数8〜28の直鎖もくしは分岐鎖のアルキル基若しくはヒドロキシアルキル基又はR9-(CH2CH2O)q-(R9 は、炭素数8〜28のアルキル基又はヒドロキシアルキル基を示し、qは1〜10の数を示す)を示し、残余はベンジル基又は炭素数1〜3のアルキル基若しくはヒドロキシアルキル基を示し、X- はハロゲンイオン又は有機アニオンを示す。〕で表わされる第四級アンモニウム塩を含有し、成分(B)/成分(C)の重量比が100/1〜2/1の範囲にあることを特徴とするシャンプー組成物。