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J-GLOBAL ID：200903098317742725

ウエーハキャリヤの洗浄方法及びその装置

Inventor： 近藤 信昭
Applicant, Patent owner： 株式会社リコー
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994238425
Publication number (International publication number)：1996078374
Application date： Sep. 06, 1994
Publication date： Mar. 22, 1996
Summary：

【要約】【目的】 ウエーハキャリヤの凹凸部に付着したパーティクルや、PFA製ウエーハキャリヤ表面の析出物を除去し、さらに、ウエーハキャリヤへのパーティクルの静電吸着を低減させる。【構成】 液体窒素2により冷却された製氷器5の上部にスプレーノズル4を設け、このスプレーノズルに加圧したIPA液3を供給可能となし、製氷器の下部は断熱配管6を介して噴射ガン7の流入側に連通させ、さらに噴射ガンには、高純度のキャリヤガス1を供給可能に構成する。ウエーハキャリヤ9の洗浄に際しては、噴射ガンからIPA氷粒子8をウエーハキャリヤに噴射する。

Claim (excerpt)：

半導体製造プロセスに用いるウエーハを保持運搬するためのウエーハキャリヤを洗浄する方法において、前記ウエーハキャリヤに、IPA(イソプロピルアルコール)の凝固微粒子、またはIPAと超純水との混合液の凝固微粒子を噴射することを特徴とするウエーハキャリヤの洗浄方法。

IPC (4)：

H01L 21/304 341 ,  H01L 21/304 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/68