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J-GLOBAL ID：200903098324126797
アライメント装置
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
大森 聡
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992324022
Publication number (International publication number)：1994177012
Application date： Dec. 03, 1992
Publication date： Jun. 24, 1994
Summary：
【要約】【目的】 露光光とは異なる波長のアライメント光を用いて投影光学系を介して感光基板上に形成されたアライメントマークの検出を行う場合に、投影光学系の反射防止コーティングの設計及び製造を容易にする。【構成】 露光光のもとでレチクル2のパターンが投影光学系3を介してウエハ4上に投影される。レーザー光源10から射出されたアライメント光としてのレーザービームが、レチクル2のレチクルマークに照射され、レチクル2を透過したアライメント光が投影光学系3を経てウエハ2上のウエハマークに照射される。そのアライメント光としてのレーザービームの波長を露光光の波長の3倍程度に設定する。
Claim (excerpt)：
転写用のパターンが形成されたマスクを露光光で照明する照明光学系と、前記露光光のもとで前記マスクの転写用のパターン像をアライメントマークが形成された感光基板上に投影する投影光学系とを備えた露光装置に設けられ、前記マスクと前記感光基板との相対的な位置関係の検出を行うアライメント装置において、前記露光光とは異なる波長のアライメント光を前記投影光学系を介して前記感光基板上に形成されたアライメントマークに照射する送光系と、前記アライメントマークからの光を前記投影光学系を介して検出する受光系とよりなるアライメント系と、前記マスクと前記感光基板との間に配置され、前記投影光学系によって前記アライメント光に対して発生する軸上色収差及び/又は倍率色収差とはそれぞれ反対方向の軸上色収差及び/又は倍率色収差を前記アライメント光に対して発生する補正光学素子とを有し、前記アライメント光として、波長が前記露光光の波長の3倍の近傍の光を使用する事を特徴とするアライメント装置。
IPC (2)：
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (6)
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