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J-GLOBAL ID：200903098351711910

有機塩素化合物の処理方法およびその装置

Inventor：
舩石 圭介

About 舩石 圭介

, 
大倉 孝雄

About 大倉 孝雄


Applicant, Patent owner：
アタカ工業株式会社

About アタカ工業株式会社


Agent (1)： 樺澤 襄 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998260518
Publication number (International publication number)：2000084357
Application date： Sep. 14, 1998
Publication date： Mar. 28, 2000
Summary：
【要約】【課題】 高濃度の有機塩素化合物を生物処理により効率よく確実に無害化する有機塩素化合物の処理装置を提供する。【解決手段】 テトラクロルエチレンなどの有機塩素化合物を含有する空気に紫外線を照射し、空気中の酸素でトリクロロアセチルクロリドなどの親水性の第1次副生成物に酸化分解する。生物処理槽4のエジェクタ7にて循環する水5と紫外線照射後の空気とを気液混合し、水5に第1次副生成物を吸収させ、トリクロル酢酸などの第2次副生成物を生成する。水5に栄養元素添加手段10から生分解性有機物および生物必須元素の微量元素を含有する栄養元素を添加する。膜分離手段14にて分集した汚泥を返送して汚泥量を高レベルに維持した反応槽6で第2次副生成物を好気性生物処理する。増殖率が低い第2次副生成物を炭素源とする微生物の流出を防止でき、微生物の活性が向上して短時間で高度に効率よく処理できる。
Claim (excerpt)：
有機塩素化合物が含有される気体に酸素存在下で紫外線を照射して前記有機塩素化合物を酸化して第1次副生成物を生成し、この酸化により生成された第1次副生成物を含有する気体を水と接触して前記第1次副生成物を水和して第2次副生成物を生成し、この第2次副生成物が溶存する水に栄養元素を添加して好気性生物にて分解することを特徴とする有機塩素化合物の処理方法。
IPC (4)：
B01D 53/70 ,  C02F 1/44 ,  C02F 3/00 ,  C02F 3/02
FI (4)：
B01D 53/34 134 E ,  C02F 1/44 F ,  C02F 3/00 D ,  C02F 3/02 Z
F-Term (35)：
4D002AA21 ,  4D002AC10 ,  4D002BA02 ,  4D002BA09 ,  4D002BA17 ,  4D002CA20 ,  4D002DA35 ,  4D002DA59 ,  4D002EA02 ,  4D002EA05 ,  4D002EA09 ,  4D002EA13 ,  4D002EA14 ,  4D002HA02 ,  4D003BA02 ,  4D003CA03 ,  4D003DA07 ,  4D003DA09 ,  4D003FA04 ,  4D003FA06 ,  4D006GA07 ,  4D006HA21 ,  4D006KA02 ,  4D006KA63 ,  4D006KB04 ,  4D006KB19 ,  4D006KB22 ,  4D006KE15R ,  4D006KE16R ,  4D006MA02 ,  4D006MB05 ,  4D006PB08 ,  4D006PC64 ,  4D027AA12 ,  4D027BA06
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (3)

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