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J-GLOBAL ID：200903098379281902

流体滴下供給装置

Inventor： 薗部 清実
Applicant, Patent owner： 株式会社イワキ
Agent (1)： 朝倉 勝三
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991206266
Publication number (International publication number)：1993029207
Application date： Jul. 22, 1991
Publication date： Feb. 05, 1993
Summary：

【要約】【目的】ポンプ室内の流体の滞留を解消するとともに、定量吐出の精度を大幅に向上させることができるようにしたことを主要な特徴とする。【構成】ポンプ機構1のポンプ室11を区画する周側部に可撓性膜17を張設し、これを非圧縮流体Wを介してアクチュエータ機構2の駆動によりポンピング作動させる。フォトレジスト液Rをポンプ室の最下部11aに設けた流入口12を介して流入させて最上部11bに設けた流出口13から流出させる。

Claim (excerpt)：

フォトレジスト液を滴下供給するポンプ機構と、このポンプ機構を駆動するアクチュエータ機構と、このアクチュエータ機構の駆動による前記ポンプ機構のポンピング作動でフォトレジスト液をポンプ室に供給するレジスト液供給手段とを備え、前記ポンプ機構において、ポンプ室にフィルタのエレメントを一体に内蔵し、かつそのポンプ室を区画する周側部に可撓性膜を張設し、この可撓性膜を非圧縮流体を介して前記アクチュエータ機構の駆動によりポンピング作動させて、前記ポンプ室の最下部に設けた流入口を介して流入させたレジスト液供給手段からのフォトレジスト液を最上部に設けた流出口を介して流出させることにより定量吐出を行なうように構成したことを特徴とする流体滴下供給装置。

IPC (4)：

H01L 21/027 ,  B05C 11/08 ,  B05C 11/10 ,  G03F 7/16 502

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (2)

• 特開昭57-079279
  
• 特開昭53-109270