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J-GLOBAL ID：200903098394254920

ポジ型フォトレジスト組成物

Inventor： 青合 利明 ,  佐藤 健一郎 ,  児玉 邦彦
Applicant, Patent owner： 富士写真フイルム株式会社
Agent (1)： 萩野 平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999082404
Publication number (International publication number)：2000275838
Application date： Mar. 25, 1999
Publication date： Oct. 06, 2000
Summary：

【要約】【課題】 深紫外線、特にArFエキシマレーザー光に対して、良好な感度、解像度を有し、且つ基板との密着性が良好で、従来のレジストに使用していた現像液(例えば2.38%テトラメチルアンモニウムヒドロキシド水溶液)に対しても良好な現像性を示すポジ型フォトレジスト組成物を提供することである。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、多環型の脂環式基と酸分解性基とを有し、酸の作用により分解してアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、及びホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基又はこれらのエステル基を有する化合物を含有するポジ型フォトレジスト組成物。

Claim (excerpt)：

(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、(B)多環型の脂環式基と酸分解性基とを有し、酸の作用により分解してアルカリに対する溶解性が増加する樹脂、及び(C)ホスホン酸基、ホスフィン酸基、リン酸基又はこれらのエステル基を有する化合物、を含有することを特徴とするポジ型フォトレジスト組成物。

IPC (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/027

FI (2)：

G03F 7/039 601 ,  H01L 21/30 502 R

F-Term (15)：

2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA09 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17