Pat
J-GLOBAL ID:200903098394949502
レーザ薄膜形成装置
Inventor:
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
深見 久郎 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1992345584
Publication number (International publication number):1994172981
Application date: Nov. 30, 1992
Publication date: Jun. 21, 1994
Summary:
【要約】【目的】 高品質かつより大きな面積の薄膜を、均一な膜質分布で、しかも基板に損傷を与えることなく形成する。【構成】 チャンバ1と、その中に配置されたターゲット5と、ターゲット5にレーザ光を照射するレーザ光源10と、基板ホルダ3とを備えている。ターゲット5にレーザ光が照射されると、プルームが発生し、プルームに含まれる物質が基板ホルダ3に保持された基板2の表面に堆積される。レーザ光源10から出射されるレーザービームは、たとえば遮蔽板4804などを通過することによって所望の断面形状に成形されて、ターゲット5表面により均一な広がりを有する光強度分布をもって照射される。その結果、より均一な活性粒子密度分布を有するプルームが発生する。
Claim (excerpt):
排気手段を有するチャンバと、前記チャンバ内に配されたターゲットと、前記ターゲットにパルス状のレーザ光を照射するレーザ光照射手段と、レーザ光の照射により前記ターゲットから発生するプルームに含まれる物質を堆積させる基板を保持する基板保持手段と、前記レーザ光照射手段から照射されるレーザ光のビーム断面形状を整形する手段とを備えたレーザ薄膜形成装置。
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (14)
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特開平3-104861
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特開平3-056670
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特開平3-287760
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特開昭62-174370
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特開昭61-079765
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特開平2-270962
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特開平3-291373
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特開平1-219155
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特開昭64-047859
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特開平4-342493
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特開平2-310363
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特開平3-054104
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特開平1-177367
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特開昭62-178933
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