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J-GLOBAL ID：200903098436890309

輻射線硬化性組成物

Inventor： スコット・セルビー・デュランド・ブラウン ,  ピーター・チェシァー・ハップフィールド ,  ピーター・イン・クワイ・ロ
Applicant, Patent owner： ダウ・コーニング・リミテッド
Agent (1)： 曾我 道照 (外6名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992300992
Publication number (International publication number)：1993262812
Application date： Nov. 11, 1992
Publication date： Oct. 12, 1993
Summary：

【要約】【構成】 優れた輻射線硬化性触媒であるニトロベンジルトシレート誘導体を含有する輻射線硬化性組成物であり、該組成物はジアルキケニルエーテルまたは輻射線硬化性オルガノシロキサン類を含有する。アルケニルエーテル官能性シロキサン類およびニトロベンジルトシレート誘導体を含有する該組成物が特に有用である。【効果】 硬化速度が速く、セルロース系基材およびその他の基材の被覆材料として優れている。

Claim (excerpt)：

(A)輻射線硬化性化合物および(B)ニトロベンジル誘導体の触媒量を含む輻射線硬化性組成物であって、その際、該ニトロベンジル誘導体が下記一般式(i):【化1】[式中Xはアルキル基、アリール基、アルキルアリール基、ハロゲン置換アルキル、アリールまたはアルキルアリール基、ニトロ置換アリールまたはアルキルアリール基、ニトロおよびハロゲン基置換を有するアリールまたはアルキルアリール基、もしくは C6H4-C6H4-SO3-CHR'C6H4-nZn(NO2) 基(但し、R'は水素、メチル、ニトロフェニルまたは置換されたニトロフェニル基を、Zは、これが酸性基でないときには、独立に炭化水素残基、炭化水素オキシ基、NO2基、ハロゲン原子または有機ケイ素化合物を、nは0、1または2の値を示す)を示す]で表されるO-ニトロベンジル誘導体であることを特徴とする、輻射線硬化性組成物。

IPC (4)：

C08F 2/50 MDN ,  C08F 16/32 MLA ,  C08F 30/08 MNU ,  C09D 5/00 PNV

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 特開昭64-016758