二元細孔シリカ及びその製造方法

Inventor： , , , ,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005027064
Publication number (International publication number)：2006213558
Application date： Feb. 02, 2005
Publication date： Aug. 17, 2006
Summary：

【課題】ナノ細孔径が大きく、しかも、破壊荷重が高く、充填時、或いは使用時における微粉化が低減された二元細孔シリカを提供すること。また、本発明の他の目的は、上記二元細孔シリカを再現性良く且つ効率的に製造する方法を提供すること。【解決手段】平均直径が5〜50nmの範囲内にあるナノ細孔と、平均直径が0.1〜20μmの範囲内であるマクロ細孔が形成され、且つ、前記ナノ細孔の容積が0.4〜1.5cm3/gの範囲内にあり、マクロ細孔の容積が0.6〜2.0cm3/gの範囲内にあり、更に、圧縮強度が10kg/cm2以上20kg/cm2以下の範囲内にあることを特徴とする二元細孔シリカとする。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

平均直径が5〜50nmの範囲内にあるナノ細孔と、平均直径が0.1〜20μmの範囲内であるマクロ細孔が形成され、且つ、前記ナノ細孔の容積が0.4〜1.5cm3/gの範囲内にあり、前記マクロ細孔の容積が0.6〜2.0cm3/gの範囲内にあり、更に、圧縮強度が10kg/cm2以上20kg/cm2以下の範囲内にあることを特徴とする二元細孔シリカ。

IPC (6)：

C01B 33/157 , B01J 20/10 , B01J 20/28 , B01J 21/08 , B01J 32/00 , B01J 35/10

FI (6)：

C01B33/157 , B01J20/10 D , B01J20/28 Z , B01J21/08 M , B01J32/00 , B01J35/10 301H

F-Term (83)：

4G066AA22B , 4G066BA20 , 4G066BA23 , 4G066BA25 , 4G066BA28 , 4G066BA35 , 4G066DA07 , 4G066EA01 , 4G066FA03 , 4G066FA21 , 4G066FA34 , 4G069AA01 , 4G069AA08 , 4G069BA03A , 4G069BA03B , 4G069BB04A , 4G069BB04B , 4G069BD05A , 4G069BD05B , 4G069EA04Y , 4G069EC07X , 4G069EC07Y , 4G069EC08X , 4G069EC08Y , 4G069EC14X , 4G069EC14Y , 4G069EC15X , 4G069EC17X , 4G069EC17Y , 4G069EC20 , 4G069EC27 , 4G069EC28 , 4G069FA01 , 4G069FB08 , 4G069FB33 , 4G069FB57 , 4G069FB78 , 4G069FC07 , 4G072AA25 , 4G072BB15 , 4G072CC10 , 4G072GG01 , 4G072GG03 , 4G072HH21 , 4G072JJ47 , 4G072KK01 , 4G072LL06 , 4G072MM31 , 4G072MM37 , 4G072PP03 , 4G072RR19 , 4G072TT08 , 4G072TT09 , 4G072TT30 , 4G072UU11 , 4G072UU15 , 4G169AA01 , 4G169AA08 , 4G169BA03A , 4G169BA03B , 4G169BB04A , 4G169BB04B , 4G169BD05A , 4G169BD05B , 4G169EA04Y , 4G169EC07X , 4G169EC07Y , 4G169EC08X , 4G169EC08Y , 4G169EC14X , 4G169EC14Y , 4G169EC15X , 4G169EC17X , 4G169EC17Y , 4G169EC20 , 4G169EC27 , 4G169EC28 , 4G169FA01 , 4G169FB08 , 4G169FB33 , 4G169FB57 , 4G169FB78 , 4G169FC07

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

特開平3-8729号公報
昇降装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-015753 Applicant：極東開発工業株式会社

Article cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

水ガラスからの二元細孔シリカの作製とその結晶化

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