Pat
J-GLOBAL ID:200903098465609929
谷埋め盛土の地滑り防止工法
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (2):
久門 知
, 久門 享
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2006223119
Publication number (International publication number):2008045352
Application date: Aug. 18, 2006
Publication date: Feb. 28, 2008
Summary:
【課題】谷埋め盛土の地滑りを防止できるようにした谷埋め盛土の地滑り防止工法を提供する。【解決手段】谷部1に造成された盛土地盤2の中に谷部1に沿って連続する地盤改良体3を造成する。地盤改良体3の両側に当該地盤改良体3の側部地山3aと谷部1の底部地山1aと側部地山1bとから新たに造成された谷部1Aの横幅W1と側部地山1bの高さDとの比率W1/Dが10以下となるように設定する。盛土地盤2の中に谷部1に沿って連続するボーリング孔5を削孔する。ボーリング孔5内に固化材を注入してボーリング孔5周囲の盛土を固化することにより地盤改良体3を造成する。【選択図】図1
Claim (excerpt):
谷部の地山に盛土することにより造成される谷埋め盛土の地滑り防止工法であって、前記谷埋め盛土の中に谷部に沿って連続する地盤改良体を造成し、当該地盤改良体の両側に当該地盤改良体の側部地山と前記谷部の底部地山と側部地山とから新たに造成された谷部の横幅W1と側部地山の高さDとの比率W1/Dが10以下となるように設定することを特徴とする谷埋め盛土の地滑り防止工法。
IPC (3):
E02D 17/20
, E02D 3/12
, E02D 5/80
FI (3):
E02D17/20 106
, E02D3/12 101
, E02D5/80 Z
F-Term (29):
2D040AA02
, 2D040AB01
, 2D040AB06
, 2D040AC05
, 2D040BB03
, 2D040BB08
, 2D040BC04
, 2D040BD03
, 2D040BD06
, 2D040CA01
, 2D040CB03
, 2D040DA03
, 2D040DA05
, 2D040DA08
, 2D040DA12
, 2D040DA13
, 2D040DA19
, 2D040DB04
, 2D040DC02
, 2D040FA07
, 2D041GA01
, 2D041GB01
, 2D041GC01
, 2D041GD01
, 2D044DC00
, 2D044EA00
, 2D044EA01
, 2D044EA03
, 2D044EA05
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
Cited by examiner (6)
-
特許第3773098号
-
特許第3749459号
-
地下水処理方法、地下水処理装置、およびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-130503
Applicant:株式会社福田組
-
薬液注入工法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-142707
Applicant:ケミカルグラウト株式会社
-
地すべり抑止工法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-088173
Applicant:鉱研工業株式会社
-
地滑り防止工法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-100761
Applicant:佐藤工業株式会社
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