表面反射防止塗布組成物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：長谷川曉司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994180168
Publication number (International publication number)：1996044066
Application date： Aug. 01, 1994
Publication date： Feb. 16, 1996
Summary：

【要約】【目的】フォトレジストの表面反射防止膜として適切な低屈折率を有し、水性媒体によって除去可能であり、また、塗布膜内に異物も発生せず、現像後の残渣の発生の極めて少ない、表面反射防止膜を形成するための組成物を提供する。【構成】水溶性フッ素化合物及び水を含む表面反射防止塗布組成物において、水溶性フッ素化合物が、フッ素化アルキルポリエーテルスルホン酸及びその非金属性塩、並びに、フッ素化アルキルポリエーテルカルボン酸及びその非金属性塩からなる群から選ばれる1以上の化合物を含有する表面反射防止塗布組成物。

Claim (excerpt)：

水溶性フッ素化合物及び水を含む表面反射防止塗布組成物において、水溶性フッ素化合物が、フッ素化アルキルポリエーテルスルホン酸及びその非金属性塩、並びに、フッ素化アルキルポリエーテルカルボン酸及びその非金属性塩からなる群から選ばれる1以上の化合物を含有することを特徴とする表面反射防止塗布組成物。

IPC (2)：

G03F 7/11 501 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

光反射性防止材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-345213 Applicant：信越化学工業株式会社
レジスト表面反射防止膜形成性組成物及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-126265 Applicant：三菱化成株式会社
表面反射防止コーティングフィルム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-128453 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション

Show all

Return to Previous Page