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J-GLOBAL ID：200903098519259139

液晶セルの製造方法

Inventor： 奥村 治
Applicant, Patent owner： 株式会社高度映像技術研究所
Agent (1)： 谷 義一 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993067995
Publication number (International publication number)：1994281940
Application date： Mar. 26, 1993
Publication date： Oct. 07, 1994
Summary：

【要約】【目的】 コントラスト比の高い液晶セルを製造する方法を提供する。【構成】 ITO付きガラス基板の全面にスペーサを散布して液晶セルを組み立て、液晶を注入した後、注入口の封止前に交流電圧を印加する。この電圧によって液晶に乱流が生じるが、それとともに表示画素内のスペーサもランダム運動し、画素外に至ってようやく停止する。従ってスペーサの多くは表示画素から取り除かれ、スペーサに起因する光漏れが減少する。

Claim (excerpt)：

対向する内面に電極を備えた一対の基板を、該基板のほぼ全面に散布したスペーサを介して一定のギャップに保ち、当該ギャップ内に液晶を注入する液晶セルの製造方法において、液晶注入後に前記液晶セルに交流電圧を印加することによって、表示画素内の前記スペーサを該表示画素外に移動することを特徴とする液晶セルの製造方法。

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 液晶表示素子の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-259701   Applicant：株式会社東芝