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J-GLOBAL ID：200903098537389848

殺菌脱臭乾燥装置における殺菌脱臭方法

Inventor：
大平 美智男

About 大平 美智男


Applicant, Patent owner：
荏原実業株式会社

About 荏原実業株式会社


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991208902
Publication number (International publication number)：1993031162
Application date： Jul. 26, 1991
Publication date： Feb. 09, 1993
Summary：
【要約】【目的】 殺菌脱臭処理にオゾンを用いた殺菌脱臭乾燥装置において、極めて低濃度のオゾンで且つ短時間で処理できると共に、乾燥処理の終了時において、乾燥室内にオゾンを残留させることのない画期的な殺菌脱臭方法を提供する。【構成】 温風供給手段よる物品の乾燥処理の過程において、乾燥室内の湿度を湿度検出器により監視し、オゾン注入手段によるオゾンの注入を乾燥室内の湿度が一定の湿度に上昇した時点で開始させると共に高湿度状態を経て一定の湿度が維持されている状態に至るまで連続的又は間歇的に継続させることにより、高温度、高湿度状態において最適濃度のオゾンで殺菌脱臭処理させる。
Claim (excerpt)：
水洗後の物品を収納させる乾燥室と、該乾燥室内へ温風を給排気させて乾燥処理を行う温風供給手段及びオゾンを注入させて殺菌脱臭処理を行うオゾン注入手段を備えた殺菌脱臭乾燥装置における殺菌脱臭処理方法であって、前記温風供給手段よる物品の乾燥処理の過程において、乾燥室内の湿度を湿度検出器により監視し、前記オゾン注入手段によるオゾンの注入を乾燥室内の湿度が一定の湿度まで上昇した時点で開始させると共に高湿度状態を経て一定の湿度が維持されている間に連続的又は間歇的に継続させることにより、高温度、高湿度状態において最適濃度のオゾンで殺菌脱臭処理させることを特徴とする殺菌脱臭乾燥装置における殺菌脱臭方法。
IPC (2)：
A61L 2/20 ,  A61L 9/015
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (5)
  • 特開平3-150207
  • 特開昭63-240865
  • 特開平4-064328
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Cited by examiner (5)
  • 特開平3-150207
  • 特開昭63-240865
  • 特開平4-064328
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