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J-GLOBAL ID：200903098538244983

基板処理装置

Inventor： 山岡 明暢
Applicant, Patent owner： 国際電気株式会社
Agent (1)： 油井 透 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998234171
Publication number (International publication number)：2000068209
Application date： Aug. 20, 1998
Publication date： Mar. 03, 2000
Summary：

【要約】【課題】 排気系へのプロセスガスの生成物の付着を低減でき、パーティクルの発生を抑制することができる基板処理装置を提供する。【解決手段】 二つの導入口4、4に交互にプロセスガスを供給すると共に、プロセスガスを導入している導入口4側の排気口5をAPCバルブ11で閉じ、反対側の排気口5をAPCバルブ11により開度を制御し、処理容器1にプロセスガスをガス流F1とガス流F2とに交互に切り替えて流す。プロセスガスを導入している導入口4側の排気口5をAPCバルブ11で塞ぎ、排気口5の排気管6がプロセスガスの滞留部となるのを防止し、排気管6などに付着するプロセスガスの生成物の付着量を低減する。

Claim (excerpt)：

プロセスガスを供給して基板の処理を行うと共に処理後のガスを排気する処理室を形成する処理容器の排気口部に、排気口を開閉するバルブを備えたことを特徴とする基板処理装置。

F-Term (7)：

5F045AF07 ,  5F045BB15 ,  5F045EB05 ,  5F045EE19 ,  5F045EF20 ,  5F045EG02 ,  5F045EG06