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J-GLOBAL ID：200903098557249171

ポリシリコン膜の研磨方法およびポリシリコン膜用研磨剤

Inventor： 渡辺 峯生 ,  原田 均 ,  菅原 誠
Applicant, Patent owner： 三菱マテリアル株式会社 ,  三菱マテリアルシリコン株式会社
Agent (1)： 安倍 逸郎
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994069078
Publication number (International publication number)：1995249600
Application date： Mar. 14, 1994
Publication date： Sep. 26, 1995
Summary：

【要約】【目的】 ポリシリコン膜の鏡面研磨に使用する研磨剤と研磨方法とを提供する。【構成】 水性コロイドシリカゾルまたはシリカゲルを主成分とし、これに0.001〜0.1重量%のアミンを含む研磨剤を用いてポリシリコン膜を研磨する。この結果、ポリシリコン膜の平坦度は基準値以下となり、例えば張り合わせのための鏡面を得ることができる。

Claim (excerpt)：

水性コロイダルシリカゾルまたはシリカゲルを主成分とし、これに0.001〜0.1重量%のアミンを含む研磨剤を用いてポリシリコン膜を研磨するポリシリコン膜の研磨方法。

IPC (3)：

H01L 21/304 321 ,  H01L 21/304 ,  B24D 3/00 340