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J-GLOBAL ID：200903098562112591

露光装置

Inventor：
間 潤治

About 間 潤治


Applicant, Patent owner：
株式会社ニコン

About 株式会社ニコン


Agent (1)： 永井 冬紀
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993030150
Publication number (International publication number)：1994244077
Application date： Feb. 19, 1993
Publication date： Sep. 02, 1994
Summary：
【要約】【目的】 パターン転写用のレチクルに減光特性を持たせる必要やレチクル毎に異なる減光手段を用意する必要がなく、かつレチクル上にて理想的な減光特性が得られる露光装置を提供する。【構成】 レチクル9の照明範囲を調整する大きさ可変式の開口Sを備えたブラインド6の遮光板600A,600BにNDフィルタ601A,601Bを重ねて取り付ける。NDフィルタ601A,601Bを遮光板600A,600Bよりも開口S側へ所望量突出させ、レンズ8によってレチクル9上に結像する開口Sの像の周辺部をNDフィルタ601A,601Bにより減光させる。
Claim (excerpt)：
照明手段と、該照明手段の照明光を第1の物体に導いて該第1の物体に形成したパターンを第2の物体に投影する投影光学系と、前記第2の物体に投影されるパターン像の周辺部の光量を当該パターン像の中心から離れるほど減少させる減光手段とを備えた露光装置において、前記減光手段と前記第1の物体との間に介在されて前記減光手段の像を前記第1の物体上に結像させる結像手段と、前記減光手段による前記第1の物体上の減光位置を調整する減光位置調整手段と、を備えることを特徴とする露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027 ,  G03B 27/32 ,  G03F 7/20 521
FI (2)：
H01L 21/30 311 L ,  H01L 21/30 311 S
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-349162   Applicant：株式会社東芝
Cited by examiner (1)
  • 投影露光装置
    Gazette classification：公開公報   Application number：特願平4-349162   Applicant：株式会社東芝

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