光触媒及びその製造方法並びにそれを用いた水素の製造方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003129083
Publication number (International publication number)：2004330074
Application date： May. 07, 2003
Publication date： Nov. 25, 2004
Summary：

【課題】太陽光などに含まれる紫外線及び可視光線を利用しうる光触媒を提供し、この触媒を用いて水素含有化合物(アルコール類)を含む水の分解に使用し、これによって、水素を生成、製造する手段を提供しようするものであり、さらにまた、有害化学物質の分解処理に使用し、これによって、有害物質無害化処理手段を提供しようとするものである。【解決手段】ゼオライトと酸化チタンとの混合系、グラファイトシリカと酸化チタンとの混合系について検討し、水和クラスターに影響を及ぼす可能性のある中間赤外線の効用を持ったグラファイトシリカが酸化チタンの光触媒の活性を高める重要因子であることを見いだした。酸化チタンにグラファイトシリカを適切な比率で混合することにより、高効率の水素を発生する光触媒を得ることができる。

Claim (excerpt)：

酸化チタンと、グラファイトシリカとを主成分とした光触媒。

IPC (4)：

B01J35/02 , B01J21/18 , C01B3/04 , C01B3/22

FI (4)：

B01J35/02 J , B01J21/18 M , C01B3/04 A , C01B3/22 A

F-Term (16)：

4G069AA02 , 4G069AA08 , 4G069BA04A , 4G069BA04B , 4G069BA16A , 4G069BA16B , 4G069BA48A , 4G069CC33 , 4G069DA05 , 4G069EA01X , 4G069EC22Y , 4G069FA01 , 4G069FB05 , 4G069FC08 , 4G140DA01 , 4G140DC01

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (3)

除菌剤
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-034160 Applicant：株式会社西日本環境工学
抗菌脱臭素材
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-154730 Applicant：株式会社日本技術開発センター
マイナスイオン発生体及びこれを用いてなるマイナスイオン製品
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-220676 Applicant：高橋美奈代, 谷元大樹

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