感光性組成物及びパターン形成方法

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：高月亨
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994000971
Publication number (International publication number)：1995049568
Application date： Jan. 10, 1994
Publication date： Feb. 21, 1995
Summary：

【要約】【目的】微細加工に適するとともに、各種ドライエッチング工程で実用的に利用できる新規な感光性組成物を提供し、また、かかる感光性組成物を用いた有利なパターン形成方法を提供する。【構成】 ?@主鎖の少なくとも一部にポリビニルアルコール鎖の如きビニルアルコール系化合物を重合して得られる骨格を含み、該骨格の水酸基の少なくとも一部が酸脱離性保護基で保護され、好ましくは更にドライエッチング耐性を向上せせる基が導入されている物質と、光酸発生剤とを含有する感光性組成物。?A上記?@を用いて、極性の高い溶媒での現像、例えば水性現像を行う、又は水性現像でポジ・パターン、アルコール性現像でネガ・パターンを得る。

Claim (excerpt)：

主鎖の少なくとも一部にビニルアルコール系化合物を重合して得られる骨格を含み、該骨格の水酸基の少なくとも一部が酸脱離性保護基で保護されている物質と、光酸発生剤とを含有することを特徴とする感光性組成物。

IPC (8)：

G03F 7/039 501 , C08F 8/12 MGG , C08L 29/04 LNG , G03F 7/021 511 , G03F 7/028 , G03F 7/038 505 , G03F 7/32 501 , H01L 21/027

FI (2)：

H01L 21/30 502 R , H01L 21/30 569 F

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (5)

特開平2-278265
特開平2-111945
特開昭62-096506

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