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J-GLOBAL ID：200903098631464365

紫外線硬化性組成物、これを用いたパターン形成方法及び配線基板の製造方法

Inventor： 野口 弘道 ,  青野 清美 ,  中田 佳恵 ,  稲本 忠喜 ,  杉谷 博志 ,  小泉 寛
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 丸島 儀一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993313620
Publication number (International publication number)：1995170054
Application date： Dec. 14, 1993
Publication date： Jul. 04, 1995
Summary：

【要約】【目的】 液体吸収性のない基板に印字でき、しかも印字物の剥離を可能とする組成物を提供する。【構成】 1分子中に少なくとも1個のカルボキシル基と、少なくとも1個の紫外線硬化性不飽和結合とを有する紫外線硬化性化合物、塩基、水及び重合開始剤を含有し、粘度が10センチポアズ以下であることを特徴とする紫外線硬化性組成物である。

Claim (excerpt)：

1分子中に少なくとも1個のカルボキシル基と、 少なくとも1個の紫外線硬化性不飽和結合とを有する紫外線硬化性化合物、 塩基、 水及び重合開始剤を含有し、 粘度が10センチポアズ以下であることを特徴とする紫外線硬化性組成物。

IPC (3)：

H05K 3/06 ,  B41M 5/00 ,  C09D 11/00 PSZ