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J-GLOBAL ID：200903098665528419

光学薄膜の製造方法及び光学部材

Inventor： 鈴木 康之 ,  安藤 謙二 ,  大谷 実 ,  枇榔 竜二 ,  金沢 秀宏
Applicant, Patent owner： キヤノン株式会社
Agent (1)： 金田 暢之 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1999102955
Publication number (International publication number)：2000297366
Application date： Apr. 09, 1999
Publication date： Oct. 24, 2000
Summary：

【要約】【課題】 屈折率1.45以下の低い屈折率で、しかも可視および紫外領域で吸収のない金属フッ化物薄膜をスパッタリングにより形成すること。【解決手段】 金属ターゲットを用いフッ素を含むガスに加えて基板近傍にH2OガスまたはH2ガスを導入し、基板表面でHFを形成し、スパッタされて基板に入射する金属をフッ化し、良質な金属フッ化物薄膜を形成する。ターゲットには直流電圧を印加し、異常放電を防止するため、数十KHzの反転電位をかけながらスパッタする。

Claim (excerpt)：

金属ターゲットを用い、少なくともフッ素を含むガスで反応性スパッタを行うことにより、基板上に金属フッ化薄膜を形成する薄膜形成方法において、フッ素を含むガスに加えてH2 OガスまたはH2ガスの両方もしくはいずれか一方を導入してスパッタを行うことを特徴とするフッ化物薄膜の形成方法。

IPC (3)：

C23C 14/34 ,  G02B 1/10 ,  G02B 5/08

FI (3)：

C23C 14/34 M ,  G02B 5/08 A ,  G02B 1/10 Z

F-Term (18)：

2H042DA08 ,  2H042DC02 ,  2K009AA07 ,  2K009BB04 ,  2K009CC03 ,  2K009CC06 ,  2K009DD04 ,  4K029BA42 ,  4K029BC07 ,  4K029CA06 ,  4K029DA01 ,  4K029DA02 ,  4K029DA04 ,  4K029DA12 ,  4K029DC03 ,  4K029DC21 ,  4K029DC34 ,  4K029DC39

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (1)

• 光学膜の製造方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平5-345114   Applicant：オリンパス光学工業株式会社