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J-GLOBAL ID:200903098669623211

回転摩擦装置

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 吉田 精孝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994210179
Publication number (International publication number):1996074843
Application date: Sep. 02, 1994
Publication date: Mar. 19, 1996
Summary:
【要約】【目的】 回転運動に対して常に安定した摩擦力を発生させることができ、しかも摩擦力の大きさを容易に制御することのできる装置を極めて簡単な構造によって実現する。【構成】 回転体1を軸方向の荷重を加えた状態で回転させると、各ローラ2が回転体1及び受動体3に接しながら転動する。その際、各ローラ2は回転体1の回転軌道に対して所定角度だけ傾斜した方向に転動しようとするのをケージ4で規制されながら回転体1の回転軌道に沿って移動するため、各ローラ2と回転体1及び受動体3との間に軸方向の荷重に比例した摩擦力が発生する。その際、各ローラ2は転動しながら滑り摩擦を発生させるので、静摩擦は発生せずに常に動摩擦による安定した抵抗力が得られる。また、回転体1の軸方向の荷重を解除すれば、摩擦力の発生しない状態を任意に得ることも可能である。
Claim (excerpt):
軸心を中心に回転する回転体と、回転体の回転軌道に沿って配列された多数のローラと、各ローラを間にして回転体に軸方向に対向する受動体と、各ローラを互いに間隔をおいて転動自在に保持する保持体とを備え、各ローラの転動軸を回転体の回転軸を含む断面に対して所定の角度をなすように傾斜させたことを特徴とする回転摩擦装置。
IPC (2):
F16C 19/38 ,  F16H 35/12
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (3)
  • 特開平4-290619
  • 特開昭60-034529
  • 特開昭63-167118

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