荷電ビーム処理装置およびその方法

Inventor： , , , , , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：秋本正実
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993053965
Publication number (International publication number)：1994044941
Application date： Mar. 15, 1993
Publication date： Feb. 18, 1994
Summary：

【要約】【目的】処理ガスによる荷電粒子ディテクタの性能劣化を防止することができる荷電ビーム処理装置およびその方法の提供。【構成】荷電粒子増幅部の前面にシャッタ機構を設け、さらに荷電粒子ディテクタ内部を排気、または差動排気できる構造にして、観察時には荷電粒子ディテクタをオンにしシャッタを開け、処理時には荷電粒子ディテクタをオフまたはそのままにし、シャッタを閉じ荷電粒子ディテクタ内部を排気する。

Claim (excerpt)：

(1) 試料を搭載したステージを内設し、排気手段を有するメインチャンバと、(2) 該メインチャンバに接続するチャンバ内に、荷電ビーム源にて発生した荷電ビームを、該荷電ビーム導出用のセンターパイプを介して前記試料に照射可能に設けられた排気手段を有する荷電ビーム光学系と、(3) 前記試料面を、電気的に中和する荷電粒子照射用の電子銃と、(4) 前記試料面の加工を前記荷電ビームと協同して行う反応性ガスを、該試料面に導く反応性ガス供給手段と、(5) 前記試料面の加工部を観察可能に、該加工部より放出される荷電粒子を検出する荷電粒子ディテクタと、(6) 該荷電粒子ディテクタを前記反応性ガスより遮蔽可能な遮蔽手段とを備えた荷電ビーム処理装置であって、(7) 前記遮蔽手段により遮蔽可能に仕切られるとともに、前記荷電粒子ディテクタを収納可能な収納空間を有し、該収納空間を真空排気する排気手段を設けたことを特徴とする荷電ビーム処理装置。

IPC (3)：

H01J 37/30 , H01J 37/244 , H01L 21/265

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (24)

特開平3-245529
特開平1-169858
特開平2-096726

特開平4-370640

特開平4-098747

特開平4-033326

特開平1-293538

特開平1-309245

特開昭52-088900

特開昭63-269387

特開昭59-143249

特開昭61-248346

特開平3-245529

特開平1-169858

特開平2-096726