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J-GLOBAL ID：200903098695962873

表示装置

Inventor：
山崎 舜平

About 山崎 舜平


Applicant, Patent owner：
株式会社半導体エネルギー研究所

About 株式会社半導体エネルギー研究所


Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1996317141
Publication number (International publication number)：1997197390
Application date： Nov. 13, 1996
Publication date： Jul. 31, 1997
Summary：
【要約】【課題】 アクティブマトリクス型表示装置において、遮光膜と薄膜トランジスタ部との間で形成される容量の問題や光漏れの問題を抑制する。【解決手段】 層間絶縁膜114として低い比誘電率を有する樹脂材料を用いる。この時樹脂材料の表面は平坦なものとする。そしてその上にBM(ブラックマトリクス)や薄膜トランジスタの遮光膜を金属材料で形成する。
Claim (excerpt)：
その出力が画素電極に接続された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタの上方に配置された樹脂材料でなる層間絶縁膜と、前記層間絶縁膜上に配置された前記薄膜トランジスタを遮光するための遮光膜と、を有することを特徴とする表示装置。
IPC (4)：
G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 29/786
FI (5)：
G02F 1/1335 500 ,  G02F 1/1333 505 ,  G02F 1/136 500 ,  H01L 29/78 619 B ,  H01L 29/78 619 A
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (9)
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