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J-GLOBAL ID：200903098703089726

半導体露光装置

Inventor： 滝沢 厚嗣
Applicant, Patent owner： 富士通株式会社
Agent (1)： 寒川 誠一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992160480
Publication number (International publication number)：1994005691
Application date： Jun. 19, 1992
Publication date： Jan. 14, 1994
Summary：

【要約】 (修正有)【目的】 ウェーハまたはマスクの露光装置、特に、ウェーハまたはマスクをセットするアライメントステージに関し、露光時のデフォーカスが発生しないようにし、また、ダストによる局部的デフォーカスが発生しないようにするアライメントステージを有する半導体露光装置を提供することを目的とする。【構成】 搬送用レール4と、搬送用レール4に沿ってx,y方向に移動し、先端に被露光物12を吸着する回転可能な吸着部6を有する搬送アーム5と、搬送アーム5によって搬送された被露光物12を吸着する真空チャック8を有するステージ7と、ステージ7の裏面から表面に向けてレーザ光を照射する少なくとも三つのレーザ照射手段9と、レーザ照射手段9に対応して設けられたレーザ検出手段10とからなるアライメントステージを有する半導体露光装置である。

Claim (excerpt)：

搬送用レール(4)と、該搬送用レール(4)に沿ってx,y方向に移動し、先端に被露光物(12)を吸着する回転可能な吸着部(6)を有する搬送アーム(5)と、該搬送アーム(5)によって搬送された前記被露光物(12)を吸着する真空チャック(8)を有するステージ(7)と、該ステージ(7)の裏面から表面に向けて光を照射する少なくとも三つの発光手段(9)と、該発光手段(9)に対応して設けられた光検出手段(10)と、前記搬送アーム(5)によって搬送された前記被露光物(12)を前記ステージ(7)上に受け渡す受け渡しピン(11)とからなるアライメントステージを有することを特徴とする半導体露光装置。

IPC (3)：

H01L 21/68 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027