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J-GLOBAL ID：200903098711121035

電子ビーム検査方法とそのシステム

Inventor： ダン・メイスバーガー ,  アラン・ディー・ブロディー ,  カート・チャドウィック ,  アニル・デサイ ,  ハンス・ドース ,  デニス・エンジ ,  ジョン・グリーン ,  ラルフ・ジョンソン ,  クリス・カーク ,  ミン - イー・リン ,  ジョン・マッマートリ ,  バリー・ベッカー ,  ジョン・ギビリスコ ,  レイ・ポール ,  マイク・ロビンソン ,  ポール・サンドランド ,  リチャード・シモンズ ,  デイビッド・イー・エー・スミス ,  ジョン・テイラー ,  リー・ベネクラセン ,  ディーン・ウォルタース ,  ポール・ウィーツォレク ,  サム・ウォング ,  エイプリル・デュッタ ,  スレンドラ・レレ ,  カークウッド・ラフ ,  ヘンリー・ピアース - パーシー ,  ジャック・ワイ・ジャウ ,  ジェシー・リン ,  ホイ・ザ・ギュイエン ,  イェン - ジェン・オヤング ,  ティモスィー・エル・ハッチェソン
Applicant, Patent owner： 日本ケー・エル・エー株式会社
Agent (1)： 鈴江 武彦
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992124951
Publication number (International publication number)：1993258703
Application date： May. 18, 1992
Publication date： Oct. 08, 1993
Summary：

【要約】【目的】X線マスクや同等の導電基板を荷電粒子を使用して安価に且つ自動的に検査する方法と装置を提供すること。【構成】荷電粒子入射による基板表面からの二次粒子、後方散乱粒子と透過粒子の少なくとも一つを検出する。基板はステージに装填され、基板走査の間一次自由度を有する。基板表面の電場で二次粒子が加速される。荷電粒子ビームに対する基板位置を正確に測定できる。更に基板位置整合の為の光学アライメント手段、基板を含むチャンバーを排気して再加圧する真空制御手段が設けられている。真空制御手段は、他の基板の処理中に、ある基板を真空状態に保つ。真空制御手段は、検査されるべき複数基板を同時に排気し、第2基板検査中に少なくとも最初の或いは別の一枚の基板を真空から加圧して常圧に戻すことができる。検査装置には、基板パターンを別のパターンと比較する手段が設けられている。

Claim (excerpt)：

基板表面に荷電粒子ビームを送りスキャンする荷電粒子ビーム手段と、前記基板の上面或いは底面から生じる、二次荷電粒子、後方散乱荷電粒子及び透過荷電粒子の3タイプの荷電粒子のうちの少なくとも一つの荷電粒子を検出する検出器手段と、前記基板を保持し、前記基板が前記荷電粒子ビームによりスキャンされている間に、前記基板に少なくとも一自由度の移動を可能とする連続的に移動可能なx-yステージと、を具備することを特徴とする基板の自動検査のためのシステム。

IPC (3)：

H01J 37/20 ,  G03F 1/08 ,  H01J 37/28

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

• 特開昭63-266754
  
• 特開昭63-266754
  
• 特開昭63-266754
  
• 特開昭58-204455
  
• 特開平2-096606
  
• 特開平2-096606
  
• 特開昭63-266754
  
• 特開昭58-204455
  
• 特開平2-096606