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J-GLOBAL ID:200903098711759412
次亜塩素酸ソーダ生成装置
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
谷藤 孝司
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1994031006
Publication number (International publication number):1995216572
Application date: Feb. 01, 1994
Publication date: Aug. 15, 1995
Summary:
【要約】【目的】 後段の主電解槽おにけるスケールの付着状況を容易に予測し判断することができると共に、後段の主電解槽でのスケールの析出を少なくして後段の主電解槽を保護することができ、更には主電解槽に供給される希釈食塩水の水温の制御、並びに希釈食塩水中の次亜塩素酸ソーダの濃度の上昇を図ることができる次亜塩素酸ソーダ生成装置を提供する。【構成】 この次亜塩素酸ソーダ生成装置は、希釈食塩水を電解して次亜塩素酸ソーダを生成する主電解槽8 と、主電解槽8 の前段に設けられ且つ希釈食塩水を電解する前置電解槽12とを備えたものである。
Claim (excerpt):
希釈食塩水を主電解槽(8) で電解して次亜塩素酸ソーダを生成するようにした次亜塩素酸ソーダ生成装置において、主電解槽(8) の前段に、希釈食塩水を電解する前置電解槽(12)を設けたことを特徴とする次亜塩素酸ソーダ生成装置。
IPC (4):
C25B 9/00 306
, C02F 1/46
, C25B 1/26
, C25B 15/00 302
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