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J-GLOBAL ID：200903098730151913

HC浄化部材

Inventor： 中 貴弘 ,  遠藤 哲雄 ,  清水 治彦 ,  藤澤 義和
Applicant, Patent owner： 本田技研工業株式会社
Agent (1)： 落合 健 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1993240097
Publication number (International publication number)：1995096183
Application date： Sep. 27, 1993
Publication date： Apr. 11, 1995
Summary：

【要約】【目的】 耐久性の優れたHC(炭化水素)浄化部材を提供する。【構成】 HC浄化部材11 は、ゼオライトを主成分とするHC吸着層5と、そのゼオライトとの高温下での接触により触媒能が劣化するPd酸化物を備えた多孔質HC酸化層7と、HC吸着層5およびHC酸化層7間に在ってPd酸化物のゼオライトとの接触を防止する多孔質バリヤ層6とより構成される。

Claim (excerpt)：

HC吸着層(5)と、そのHC吸着層(5)との接触により触媒能が劣化する触媒素子を備えた多孔質HC酸化層(7)と、前記HC吸着層(5)およびHC酸化層(7)間に在って前記触媒素子の前記HC吸着層(5)との接触を防止する多孔質バリヤ層(6)とより構成したことを特徴とするHC浄化部材。

IPC (7)：

B01J 20/28 ZAB ,  B01D 53/02 ZAB ,  B01D 53/72 ,  B01D 53/86 ZAB ,  B01D 53/94 ,  B01J 20/18 ZAB ,  B01J 29/068 ZAB

FI (3)：

B01D 53/34 120 D ,  B01D 53/36 ZAB ,  B01D 53/36 104 Z