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J-GLOBAL ID：200903098734803540
蛍光X線の分析方法
Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：
杉本 修司 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991318527
Publication number (International publication number)：1993126768
Application date： Nov. 05, 1991
Publication date： May. 21, 1993
Summary：
【要約】【目的】 試料に含まれた元素の回折X線によるノイズをなくして、低含有量の元素についても、S/N比を改善して蛍光X線の分析精度を高める。【構成】 試料1を試料上の所定点まわりに180°以上回転させながら、この試料1に1次X線を照射することで、試料1から発生する蛍光X線および回折X線を含んだ2次X線を検出する。この検出により得られた2次X線強度が最小値を示す回転方向位置に試料1を位置決めする。このような位置決め後において、試料を、その主面に平行な面内で互いに直交するXY方向に移動させて試料の主面全域の蛍光X線分析を行なう。
Claim (excerpt)：
試料の蛍光X線分析に先立って、上記試料を試料上の所定点まわりに180°以上回転させながら、この試料に1次X線を照射して、試料から発生する蛍光X線および回折X線を含んだ2次X線を検出し、得られた2次X線強度が最小値を示す回転方向位置に試料を位置決めし、この状態で試料を、その主面に平行な面内で互いに直交するXY方向に移動させて試料の主面全域の蛍光X線分析を行なう蛍光X線の分析方法。
Patent cited by the Patent：
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