水処理装置

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：大澤斌 (外2名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997008196
Publication number (International publication number)：1998202010
Application date： Jan. 21, 1997
Publication date： Aug. 04, 1998
Summary：

【要約】【課題】原水が懸濁物を多量に含む濁度の高い水であっても、また、原水の濁度が変動しても、水道水、工業用水等の浄水、更には純水、超純水の原料水として用いることのできる高品質の処理水を効率良く、しかも安定して製造できる装置を提供する。【解決手段】本水処理装置10は、膜濾過装置18と、その前処理装置として設けられた凝集沈殿式の除濁装置14とから構成される。除濁装置14は、導水した原水に凝集剤を添加する添加手段22、24と、添加手段の下流に設けられ、大きな空隙率を有する小片接触材を集積させてなる接触材集積層44を有して、接触材集積層内を上向流で流れる原水中の懸濁物を凝集、分離する凝集沈殿槽28とからなる。膜濾過装置18は、除濁装置の下流に設けられ、除濁装置から流出した一次処理水を導入して微細な懸濁物を膜分離し、清浄な透過水を得る。

Claim (excerpt)：

導水した原水に凝集剤を添加する添加手段と、添加手段の下流に設けられ、大きな空隙率を有する小片接触材を集積させてなる接触材集積層を有して、接触材集積層内を上向流で流れる原水中の懸濁物を凝集、分離する凝集沈殿槽とからなる除濁装置と、除濁装置の下流に設けられ、除濁装置から流出した一次処理水を導入して微細な懸濁物を膜分離し、透過水を得る膜濾過装置とを備えていることを特徴とする水処理装置。

IPC (3)：

B01D 21/08 , B01D 21/01 , C02F 1/44

FI (3)：

B01D 21/08 A , B01D 21/01 A , C02F 1/44 H

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (6)

懸濁成分を含む水の処理装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-087008 Applicant：オルガノ株式会社
複合ろ過装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-308086 Applicant：石垣機工株式会社
特開平2-086898

Show all

Return to Previous Page