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J-GLOBAL ID：200903098791520903
X線露光装置
Inventor：
,
Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1992019138
Publication number (International publication number)：1993217857
Application date： Feb. 04, 1992
Publication date： Aug. 27, 1993
Summary：
【要約】【目的】 X線源側と露光光学系側との間にフィルタを設け、フィルタの両側の真空度が異なるように設定したX線露光装置において、該フィルタの信頼性および装置のスループットを向上させる。【構成】 X線源1から発するX線をマスク5上に照射して該マスク上のパターンをウエハ7に投影するX線露光光学系6、これらを真空空間中に維持する真空容器8、およびX線源1が設置される真空空間とX線露光光学系6が設置される真空空間とを分離する第1のフィルタ3、からなるX線露光装置において、X線源1と第1のフィルタ3との間のX線光路上にX線は透過し可視光は透過しない第2のフィルタ2を設置した。
Claim (excerpt)：
X線源と、該X線源から発するX線をマスク上に照射するための前置光学系と、前記マスク上のパターンをウエハに投影するための縮小投影光学系と、前記X線源からウエハまでのX線の光路を真空空間中に維持する真空容器と、X線が透過可能な物質で形成され、前記X線源と縮小投影光学系の間のX線の光路上に設けられてX線が入射する側の真空空間とX線が出射する側の真空空間とを分離するための第1のフィルタと、からなるX線露光装置において、前記X線源と第1のフィルタとの間のX線光路上に、X線は透過し可視光は透過しない第2のフィルタを設置したことを特徴とするX線露光装置。
IPC (3)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 503
, G03F 7/20 521
Cited by examiner (6)
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