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J-GLOBAL ID：200903098796331556

液浸露光用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
稲部 陽樹

About 稲部 陽樹

, 
漢那 慎一

About 漢那 慎一

, 
神田 博美

About 神田 博美


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005045654
Publication number (International publication number)：2006079048
Application date： Feb. 22, 2005
Publication date： Mar. 23, 2006
Summary：
【課題】 液浸露光に適用した場合に、ドライ露光時に比較して感度の劣化が小さく、液浸液への酸の溶出が極めて少ない液浸露光に好適なレジストを提供する。【解決手段】 (A)フッ素原子を有する繰り返し単位を少なくとも1種含有しており、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)フッ素原子を有する繰り返し単位を少なくとも1種含有しており、かつ酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂及び(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、を含有することを特徴とする液浸露光用ポジ型レジスト組成物。
IPC (5)：
G03F 7/039 ,  C08F 16/22 ,  C08F 20/26 ,  C08F 32/08 ,  H01L 21/027
FI (5)：
G03F7/039 601 ,  C08F16/22 ,  C08F20/26 ,  C08F32/08 ,  H01L21/30 502R
F-Term (34)：
2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BG00 ,  2H025FA03 ,  2H025FA12 ,  2H025FA17 ,  4J100AE09R ,  4J100AK32S ,  4J100AL08Q ,  4J100AL26Q ,  4J100AR09P ,  4J100BA02P ,  4J100BA03P ,  4J100BA04P ,  4J100BA11Q ,  4J100BA22P ,  4J100BA27Q ,  4J100BB07P ,  4J100BB11P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08Q ,  4J100BC08R ,  4J100BC09Q ,  4J100BC12R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (3) Cited by examiner (16)
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