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J-GLOBAL ID：200903098797940882

X線発生装置

Inventor：
浮田 昌昭

About 浮田 昌昭


Applicant, Patent owner：
株式会社島津製作所

About 株式会社島津製作所


Agent (1)： 杉谷 勉
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002210778
Publication number (International publication number)：2004055325
Application date： Jul. 19, 2002
Publication date： Feb. 19, 2004
Summary：
【課題】ターゲットを振動させて実効的な電子衝突面積を大きくすることにより、ターゲットを厚くすることなくその長寿命化を図って装置の稼働率を高め、連続したX線の発生時間を長くすることができる。【解決手段】振動付与部によって電子ビームBの衝突点をターゲット9上で移動させることができ、ターゲット9における実効的な電子衝突面積を大きくできるので、発生する熱を分散させて電子衝突による集中的なターゲット9の温度上昇を抑制することができる。したがって、ターゲット9の蒸散を減少させることができる。その結果、ターゲット9を厚くすることなくターゲット9の長寿命化を図ることができ、ターゲット9の交換・調整に起因する装置の稼働率を高めることができ、連続したX線発生時間を長くできる。【選択図】 図3
Claim (excerpt)：
ターゲットに対して微小径の電子ビームを照射してX線を発生させるX線発生装置において、前記ターゲットの面方向に前記ターゲットを振動させる振動付与手段を備えていることを特徴とするX線発生装置。
IPC (3)：
H01J35/08 ,  G21K5/02 ,  G21K5/08
FI (5)：
H01J35/08 D ,  H01J35/08 C ,  H01J35/08 F ,  G21K5/02 X ,  G21K5/08 X
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (7)
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