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J-GLOBAL ID：200903098830244960

光変調測定装置

Inventor： 江田 英雄
Applicant, Patent owner： 株式会社島津製作所
Agent (1)： 縣 浩介
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1991313486
Publication number (International publication number)：1993126719
Application date： Oct. 31, 1991
Publication date： May. 21, 1993
Summary：

【要約】【目的】 試料に交流変調された光を照射し、試料透過或は散乱光を検出し、変調位相のおくれから試料についての情報を得る測定装置において、照射光の平均強度と変調振幅を測光回路の能力一杯に設定することにより測定感度を上げる。【構成】 光源の交流変調を0にし、光源強度を0から次第に増加させつゝ試料からの光を測光し、測光出力が検出され始めたときと測光出力が飽和し始めたときの照射光の範囲で照射光強度を変化させるようにした。

Claim (excerpt)：

強度変調した光を試料に照射し、試料からの透過或は散乱光を検出する測定装置において、光源の光強度の平均レベルと変調の振幅を可変とし、光強度を無変調で0から増加させながら、測光出力が得られる最小光強度レベルItと測光出力が飽和し始めるときの光強度レベルIsを検出し、光源の平均レベルを(It+Is)/2に、また変調振幅を(Is-It)/2より適宜小さく設定する自動設定手段を設けたことを特徴とする光変調測定装置。

IPC (2)：

G01N 21/00 ,  G01N 21/27