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J-GLOBAL ID:200903098866080254
基板被膜の端縁部除去方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
杉谷 勉
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998261134
Publication number (International publication number):2000089482
Application date: Sep. 16, 1998
Publication date: Mar. 31, 2000
Summary:
【要約】【課題】 基板の表面に形成された有機樹脂系層間絶縁膜の不要部分を溶解除去した際に、被膜の除去端部分の盛り上がりを抑制して被膜からのパーティクルの発生を防止することができる基板被膜の端縁部除去方法を提供する。【解決手段】 基板Wの表面に形成された有機樹脂系層間絶縁膜のうち、基板Wの端縁部表面の被膜に処理液を供給して除去する基板被膜の端縁部除去方法において、前記処理液としてo-ジクロロベンゼンを含む溶液を用いる。針状ノズル7から供給された処理液は、前記被膜に対して適度な浸透力を有するので、除去端が盛り上がることを抑制できる。
Claim (excerpt):
基板の表面に形成された有機樹脂系層間絶縁膜のうち、基板の端縁部表面の被膜に処理液を供給して除去する基板被膜の端縁部除去方法において、前記処理液としてo-ジクロロベンゼンを含む溶液を用いることを特徴とする基板被膜の端縁部除去方法。
IPC (3):
G03F 7/42
, C09D 9/00
, H01L 21/027
FI (3):
G03F 7/42
, C09D 9/00
, H01L 21/30 577
F-Term (9):
2H096AA25
, 2H096DA04
, 2H096DA10
, 2H096LA30
, 4J038RA01
, 4J038RA03
, 4J038RA16
, 5F046JA27
, 5F046MA19
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